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高硅鋁合金無氫氟酸前處理的化學(xué)氧化法

時(shí)間:2026-04-05    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 1 ) 次

【摘要】 一種用含有Cr6+、Fe(CN)6-3、F-、Cl-離子和表面活性劑組成的酸性溶液對(duì)高硅鋁合金進(jìn)行化學(xué)氧化的方法,該方法不使用氫氟酸,并將原來的脫脂、堿蝕、酸蝕及化學(xué)氧化一步完成,既避免了對(duì)人體的危害和環(huán)境的污染,又可在工件表面形成耐腐蝕的帶有色彩的轉(zhuǎn)化膜,并且可簡(jiǎn)化工序減少占地面積,投資和成本均只有傳統(tǒng)方法的一半左右,操作簡(jiǎn)便,生產(chǎn)率高。 【專利類型】發(fā)明授權(quán) 【申請(qǐng)人】第二汽車制造廠 【申請(qǐng)人類型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】湖北省十堰市張灣區(qū) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】十堰市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】張灣區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N86108470.5 【申請(qǐng)日】1986-12-13 【申請(qǐng)年份】1986 【公開公告號(hào)】CN1014083B 【公開公告日】1991-09-25 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號(hào)】CN1014083B 【授權(quán)公告日】1991-09-25 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類號(hào)】C23C22/37; C23C22/05 【發(fā)明人】葉舟; 劉嘩紅; 皮啟德; 范向東 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種采用含有Cr6+、Fe(CN)6-3和F-離子 的酸性溶液對(duì)鋁和鋁合金進(jìn)行化學(xué)氧化的方法,其 特征在于,所述酸性溶液中還加有表面活性劑和 Cl-離子,其中Cr6+離子的含量為5g/L,F(xiàn)e (CN)6-3離子的含量為0.5g/L,F(xiàn)-離子的含量為 0.5g/L,表面活性劑含量為0.3-1ml/L,Cl-離 子的含量為0.1-1g/L,溶液的pH值為1-1.7, 溫度為5-45℃。 【當(dāng)前權(quán)利人】第二汽車制造廠 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】湖北省十堰市張灣區(qū) 【被引證次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】1.0 【家族被引證次數(shù)】1.0

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    【摘要】本實(shí)用新型提供了一種新式的遮陽帽,它的特點(diǎn) 是帽盔與帽遮組合而成,當(dāng)陽光斜射時(shí),可調(diào)整帽盔 的位置,即調(diào)整了帽遮在帽盔周圍的比例。變閑置無 用帽遮為有效遮光帽遮,提高了遮陽效果。。關(guān)注公眾號(hào)馬 克 數(shù) 據(jù) 網(wǎng)【專利類型】實(shí)用新型【申

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    【摘要】后視圖無圖案,省略后視圖。【專利類型】外觀設(shè)計(jì)【申請(qǐng)人】立邦涂料(中國(guó))有限公司【申請(qǐng)人類型】企業(yè)【申請(qǐng)人地址】201201上海市浦東新區(qū)金橋出口加工區(qū)創(chuàng)業(yè)路287號(hào)【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó)【申請(qǐng)人城市】上海市【申請(qǐng)人區(qū)縣】浦東新區(qū)【申請(qǐng)

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    【摘要】1.該產(chǎn)品為平面產(chǎn)品。 2.后視圖無設(shè)計(jì)要點(diǎn),省略后視圖。 3.請(qǐng)求保護(hù)的外觀設(shè)計(jì)包含有色彩?!緦@愋汀客庥^設(shè)計(jì)【申請(qǐng)人】社團(tuán)法人浦東新區(qū)工程師協(xié)會(huì); 姜懷超【申請(qǐng)人類型】個(gè)人,機(jī)關(guān)團(tuán)體【申請(qǐng)人地址】201203上海市張江高科技園

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    【專利類型】外觀設(shè)計(jì)【申請(qǐng)人】社團(tuán)法人浦東新區(qū)工程師協(xié)會(huì); 齊升強(qiáng)【申請(qǐng)人類型】個(gè)人,機(jī)關(guān)團(tuán)體【申請(qǐng)人地址】201203上海市張江高科技園區(qū)郭守敬路189號(hào)【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó)【申請(qǐng)人城市】上海市【申請(qǐng)人區(qū)縣】浦東新區(qū)【申請(qǐng)?zhí)枴緾N20063

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    【摘要】本發(fā)明公開了一種紅外焦平面列陣器件混成互 連銦柱的微熔回流加固方法,該方法是在紅外光敏感列陣芯片 和讀出電路在常規(guī)的冷壓混成互連后,采用甲酸作為還原劑, 在金屬銦的熔點(diǎn)溫度下進(jìn)行混成互連銦柱的微熔回流加固,以 增強(qiáng)混成互連銦柱之間及

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