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紅外焦平面列陣器件混成互連銦柱的微熔回流加固方法

時間:2026-04-05    作者:admin 點擊: ( 1 ) 次

【摘要】 本發(fā)明公開了一種紅外焦平面列陣器件混成互 連銦柱的微熔回流加固方法,該方法是在紅外光敏感列陣芯片 和讀出電路在常規(guī)的冷壓混成互連后,采用甲酸作為還原劑, 在金屬銦的熔點溫度下進(jìn)行混成互連銦柱的微熔回流加固,以 增強混成互連銦柱之間及內(nèi)部的鍵合力,以及混成互連銦柱與 金屬化電極層間的機(jī)械接觸強度,從而確保紅外光敏感列陣芯 片與硅讀出電路之間的電學(xué)連通,并提高紅外焦平面混成互連 的機(jī)械可靠性。本發(fā)明方法操作簡單,便于在工藝上實現(xiàn)。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】200083上海市玉田路500號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】虹口區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610117107.X 【申請日】2006-10-13 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1937190A 【公開公告日】2007-03-28 【公開公告年份】2007 【發(fā)明人】葉振華; 胡曉寧; 王建新; 周文洪; 王晨飛; 丁瑞軍 【主權(quán)項內(nèi)容】1.一種紅外焦平面列陣器件混成互連銦柱的微熔回流加固方法,其特征在 于具體步驟如下: §A.將由銦柱冷壓混成互連成的紅外焦平面列陣器件樣品與監(jiān)控銦片一起 放到可自動升降控溫的回熔爐的樣品臺上; §B.然后對樣品室抽真空至6×10-3mbar以下,加熱樣品和監(jiān)控銦片,在 1-1.5分鐘內(nèi)將其迅速加熱到銦的熔點,同時在這一升溫和互連銦柱微熔加固的 過程中,往腔室里通入500~600L/小時的含有甲酸氣氛的氮氣流,該含甲酸氣 氛的氮氣流由氮氣通過80%的甲酸液體產(chǎn)生; §C.觀察監(jiān)控銦片,當(dāng)銦片回流成球后,立即停止含甲酸氣氛的氮氣流入, 以流速為2000~2500L/小時的大流量的氮氣吹樣品,且起用樣品臺冷卻降溫功 能,使樣品在10-20秒內(nèi)迅速降至室溫,然后將氮氣流速降為400~500L/小時, 并維持30-40分鐘來清洗回流微熔加固過程中殘留的甲酸氣體及反應(yīng)生成物,確 保微熔回流后的樣品能夠長時間儲存。 【當(dāng)前權(quán)利人】中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市玉田路500號 【統(tǒng)一社會信用代碼】12100000425005579K 【被引證次數(shù)】4 【被自引次數(shù)】2.0 【家族被引證次數(shù)】4

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