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一種提高恒流源電路性能的方法

時間:2026-04-05    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 1 ) 次

【摘要】 本發(fā)明提供了一種提高恒流源電路性能的方法, 其特點(diǎn)是:在恒流源電路的參考電源和運(yùn)算放大器之間增設(shè)一 減法裝置,電路電源Vcc和參考電源通過減法裝置相減后的結(jié) 果作為運(yùn)算放大器的正輸入端,參考電阻連接在電路電源Vcc 和運(yùn)算放大器的負(fù)輸入端之間,運(yùn)算放大器的輸出連接NPN 三極管的基極,三極管的集電極連接運(yùn)算放大器的負(fù)輸入端, 負(fù)載連接在三極管的發(fā)射極和電源地之間。使負(fù)載上的電壓以 零電勢作為參考點(diǎn),減少了恒流源電路對供電電源的依賴性, 提高了恒流源電路的帶載能力、抗干擾能力等多方面的性能。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】上海微電子裝備有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】201203上海市張江高科技園區(qū)張東路1525號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】浦東新區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610029298.4 【申請日】2006-07-21 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1888999A 【公開公告日】2007-01-03 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100432884C 【授權(quán)公告日】2008-11-12 【授權(quán)公告年份】2008.0 【IPC分類號】G05F1/46; G05F1/10 【發(fā)明人】常依斌; 湯勇; 李小平; 束劍平 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種提高恒流源電路性能的方法,其特征在于:在恒流源電路的 參考電源和運(yùn)算放大器之間增設(shè)一減法裝置,使負(fù)載上的電壓以零電勢作 為參考點(diǎn),以減少恒流源電路對供電電源的依賴性。 【當(dāng)前權(quán)利人】上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市浦東新區(qū)張東路1525號 【專利權(quán)人類型】有限責(zé)任公司 【統(tǒng)一社會信用代碼】91310000736664790J 【被引證次數(shù)】2 【被自引次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】1.0 【家族引證次數(shù)】3.0 【家族被引證次數(shù)】3

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    【摘要】1.該產(chǎn)品為平面產(chǎn)品。 2.后視圖無設(shè)計(jì)要點(diǎn),省略后視圖。 3.請求保護(hù)的外觀設(shè)計(jì)包含色彩?!緦@愋汀客庥^設(shè)計(jì)【申請人】社團(tuán)法人浦東新區(qū)工程師協(xié)會; 李娜【申請人類型】個人,機(jī)關(guān)團(tuán)體【申請人地址】201203上海市張江高科技園區(qū)郭

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【摘要】一種錐管流量計(jì),包含管壁、支撐管和錐形節(jié)流 件,以及位于管壁上的高壓信號導(dǎo)出口和低壓信號導(dǎo)出口;所 述的支撐管包含第一支撐管和第二支撐管,第一支撐管和第二 支撐管為同軸雙套管結(jié)構(gòu)或者相互獨(dú)立分布結(jié)構(gòu),支撐管和錐 形節(jié)流件都設(shè)置內(nèi)部通

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【摘要】一種電子菜譜。它是在現(xiàn)有普通菜譜的基礎(chǔ)上增加了單片機(jī)系統(tǒng)、菜名傳感器、液晶顯示器、計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)。使一本普通菜譜具有智能化功能。顧客上飯店就餐只要輕松按動與菜名相連的按鈕,其他的工作就全由系統(tǒng)自動完成。極大地提高了飯店的自動化程度,降低

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【摘要】本發(fā)明涉及一種通過推技術(shù)實(shí)現(xiàn)Web頁面進(jìn)行ADSL測試的方法,其特征在于,在Web服務(wù)器上以軟件方式實(shí)現(xiàn),軟件是以C#語言編寫,安裝在Windows操作系統(tǒng)上,通過和IIS的配合,使用請求頁面阻塞的方法維持客戶端請求時的網(wǎng)絡(luò)連接通道

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【摘要】一種廉價多晶硅薄膜太陽電池,結(jié)構(gòu)為背電極 襯底制有P-N結(jié)的多晶硅薄膜柵狀上電極,在電池入射光表 面有氮化硅減反射膜,其特征在于:在襯底和制有P-N結(jié)的 多晶硅薄膜之間還有重?fù)絇+層 及阻擋襯底雜質(zhì)向多晶硅薄膜擴(kuò)散的 SiO2隔離層

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【專利類型】外觀設(shè)計(jì)【申請人】王福英【申請人類型】個人【申請人地址】200126上海市虹口區(qū)長春路158號2號樓15B室【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】虹口區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630045449.6【申請日】2006-

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