【摘要】本發(fā)明提供了一種消除光刻膠中氣泡的方法，具體工藝步驟為：對晶片進(jìn)行第一次烘焙；沉積凸點(diǎn)下金屬層；形成光刻膠層；進(jìn)行第二次烘焙。使用上述的方法能消除具有各種結(jié)構(gòu)的晶片表面的氣泡，消除率達(dá)到99.9％。本發(fā)明還提供一種消除了光刻膠中氣泡
【摘要】 一種單片機(jī)和多路模擬開關(guān)控制的寬溫范圍高 低溫循環(huán)設(shè)備，使用單片機(jī)實(shí)現(xiàn)步進(jìn)電機(jī)和自動(dòng)輸液氮控制， 在數(shù)據(jù)采集卡的外圍加設(shè)多路模擬開關(guān)來增加采集卡的模擬 通道數(shù)目，同時(shí)實(shí)現(xiàn)了設(shè)備控制模塊和信號(hào)監(jiān)測模塊的分離。 從而達(dá)到提高設(shè)備穩(wěn)定性、增強(qiáng)可操作性，和監(jiān)測數(shù)十路以上 模擬信號(hào)的目的。其中自動(dòng)輸液氮控制模塊體積小、成本低、 方便靈活、可移植性強(qiáng)，可以用在其它需要自動(dòng)輸液氮的場合。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】200083上海市虹口區(qū)玉田路500號(hào) 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】虹口區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610116259.8 【申請日】2006-09-20 【申請年份】2006 【公開公告號(hào)】CN1928525A 【公開公告日】2007-03-14 【公開公告年份】2007 【發(fā)明人】吳禮剛; 任仁; 龔海梅; 朱三根; 李向陽; 方家熊 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種基于單片機(jī)控制和多路模擬開關(guān)的寬溫范圍高低溫循環(huán)設(shè)備，包 括步進(jìn)電機(jī)，由步進(jìn)電機(jī)推動(dòng)傳熱板在高低溫環(huán)境之間往復(fù)運(yùn)動(dòng)，從而使傳 熱板上的被測器件溫度循環(huán)變化；和將液氮從母缸向子缸輸送的自動(dòng)輸液氮 系統(tǒng)；以及一數(shù)據(jù)采集卡，其特征在于還有： a.一用于控制電機(jī)運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的單片機(jī)，其設(shè)有中斷端口連接手動(dòng)·自動(dòng)控 制模式切換開關(guān)(K1)；設(shè)有手動(dòng)式調(diào)控步進(jìn)電機(jī)每次運(yùn)動(dòng)的方向和距離的四 只端口并相應(yīng)連接四個(gè)開關(guān)(K2、K3、K4、K5)；和由8個(gè)端口連接十進(jìn)制的 個(gè)位、十位顯示器及由8個(gè)端口連接數(shù)字鍵盤而形成人-機(jī)界面；以及接受傳熱 板溫度反饋信號(hào)以判定電機(jī)運(yùn)行狀態(tài)、位置；和提供驅(qū)動(dòng)步進(jìn)脈沖的端口； b.一用于控制自動(dòng)輸液氮系統(tǒng)的單片機(jī)，其設(shè)有連接子缸、母缸液位探 測器和運(yùn)輸通路控制繼電器；以及 c.連接該數(shù)據(jù)采集卡的擴(kuò)展芯片。 【當(dāng)前權(quán)利人】中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市虹口區(qū)玉田路500號(hào) 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】12100000425005579K
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