【摘要】1.該產品為平面產品。 2.后視圖無設計要點,省略后視圖。 3.請求保護的外觀設計包含有色彩。來自馬克數(shù)據(jù)網(wǎng)【專利類型】外觀設計【申請人】社團法人浦東新區(qū)工程師協(xié)會; 馮莎【申請人類型】個人,機關團體【申請人地址】201203上海市
【摘要】 一種硼磷氧化硅工藝,其特征在于,降低淀積反 應物中的硼和磷元素的總濃度,使其小于15摩爾百分比;并 使硼元素和磷元素之比大于2.5。本發(fā)明工藝操作簡單,成本 低,適于大生產。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】上海集成電路研發(fā)中心有限公司; 上海華虹NEC電子有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】201203上海市浦東新區(qū)碧波路177號4樓 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】浦東新區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610030857.3 【申請日】2006-09-06 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1920093A 【公開公告日】2007-02-28 【公開公告年份】2007 【發(fā)明人】繆炳有; 龔順強; 陳昊瑜 【主權項內容】1、一種硼磷氧化硅工藝,其特征在于,降低淀積反應物中的硼和磷元素 的總濃度,使其小于15摩爾百分比;并使硼元素和磷元素之比大于2.5。 【當前權利人】上海集成電路研發(fā)中心有限公司; 上海華虹NEC電子有限公司 【當前專利權人地址】上海市浦東新區(qū)碧波路177號4樓; 上海市浦東新區(qū)川橋路1188號 【專利權人類型】有限責任公司(國有控股); 有限責任公司(臺港澳法人獨資) 【統(tǒng)一社會信用代碼】91310115745635158X; 91310000607374607X
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