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低生長束流下離子束濺射技術(shù)自組織生長Ge量子點的方法

時間:2026-04-09    作者:admin 點擊: ( 0 ) 次

【摘要】 本發(fā)明提供一種低生長束流下離子束濺射技術(shù)自組織生長Ge量子點的方法,包括離子束真空濺射,并使用氬(Ar)氣作為工作氣體,其特征在于控制低生長束流為2mA~10mA,并在束流電壓為0.2KV~1.5KV,濺射壓強(qiáng)為1.0×10-2Pa~4.0×10-2Pa,生長溫度為室溫~400℃的條件下,在硅(Si)基底材料上濺射沉積Ge/Si多層膜,,得到島狀自組織生長的Ge量子點結(jié)構(gòu)。有效解決了常規(guī)技術(shù)制備量子點材料存在的生產(chǎn)成本高、工藝復(fù)雜、不利于大規(guī)模生產(chǎn)等不足,獲得密度大、尺寸均勻的量子點材料,其制備的量子點材料,是在價格低廉,可產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)的離子束濺射設(shè)備上進(jìn)行的,這樣不僅可降低量子點的生產(chǎn)成本,還可提高生產(chǎn)效率,是制備量子點的一種簡易而高效的方法。 數(shù)據(jù)由馬 克 團(tuán) 隊整理 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】云南大學(xué) 【申請人類型】學(xué)校 【申請人地址】650091云南省昆明市五華區(qū)翠湖北路2號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】昆明市 【申請人區(qū)縣】五華區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610048900.9 【申請日】2006-12-11 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1974838A 【公開公告日】2007-06-06 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100500929C 【授權(quán)公告日】2009-06-17 【授權(quán)公告年份】2009.0 【發(fā)明人】楊宇; 宋超; 孔令德; 張曙 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種低生長束流下離子束濺射技術(shù)自組織生長Ge量子點的方法, 包括離子束真空濺射,并使用氬(Ar)氣作為工作氣體,其特征在于控制 低生長束流為2mA~10mA,并在束流電壓為0.2KV~1.5KV,濺射壓強(qiáng)為 1.0×10-2Pa~4.0×10-2Pa,生長溫度為室溫~400℃的條件下,在硅(Si) 基底材料上濺射沉積Ge/Si多層膜,得到島狀自組織生長的Ge量子點結(jié)構(gòu) 的薄膜材料。 【當(dāng)前權(quán)利人】云南大學(xué) 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】云南省昆明市呈貢區(qū)大學(xué)城東外環(huán)南路 【專利權(quán)人類型】公立 【統(tǒng)一社會信用代碼】125300004312032649 【被引證次數(shù)】TRUE 【家族被引證次數(shù)】TRUE

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    發(fā)布時間:2026-04-09

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    【專利類型】外觀設(shè)計【申請人】云南盤龍云海藥業(yè)有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】650106云南省昆明市人民西路618號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】昆明市【申請?zhí)枴緾N200630021369.7【申請日】2006-11-13【申

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