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【摘要】本實用新型涉及一種涂膜層壓體，其對建筑物壁 面基材設(shè)置凹凸形狀涂膜層的涂膜層壓體，該凹凸形狀涂膜層 通過平均膜厚為0.3mm以上的平坦涂膜層層壓在基材上；凹凸 形狀涂膜層是含有玻璃化轉(zhuǎn)變溫度－20～80℃樹脂成分(A)與 粒徑1～5

【摘要】本發(fā)明涉及一種制備導(dǎo)電氮化硅氮化鈦納米復(fù) 合材料的方法，其特征在于在液氨溶液中，以 Si3N4粉為成核基體，鈦的鹵化物和堿金屬為反應(yīng)原料，按 Si3N4與TiN的體積比為90∶10～75∶25配料，在 Si3N4顆粒表面一步原位反應(yīng)

【摘要】本發(fā)明提供一種可調(diào)諧OADM模塊，包括：第一粗波分復(fù)用器1，將輸入的2N個λ信號分解成兩路；1 : N分波器，其將輸入的drop信號能量均分為N等份；可調(diào)諧濾波片，將輸入drop信號根據(jù)需要進(jìn)行選通或阻斷；光電－電光轉(zhuǎn)化部分，其可由

【摘要】馬-克-數(shù)據(jù)本發(fā)明涉及一種電子束曝光中套刻工藝的實現(xiàn) 方法，屬于微電子領(lǐng)域。其特征在于將套刻標(biāo)志放置于曝光圖 形的中央，而后利用電鏡放大倍數(shù)的縮放來實現(xiàn)套刻。傳統(tǒng)的 套刻技術(shù)是將對準(zhǔn)標(biāo)記和圖形結(jié)構(gòu)的位置獨立開來，但是這需 要較為昂貴

【專利類型】外觀設(shè)計【申請人】上海泛太制帽有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】201100上海市閔行區(qū)黎安路1188號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】閔行區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630037000.5【申請日】2006

【摘要】1.請求保護(hù)的外觀設(shè)計包含色彩。 2.本外觀設(shè)計產(chǎn)品為平面產(chǎn)品，省略其他視圖。 3.單元圖案四方連續(xù)，無限定邊界?！緦＠愋汀客庥^設(shè)計【申請人】上海題橋紡織染紗有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】201114上海市閔行區(qū)浦江鎮(zhèn)立