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一種高度c軸取向的納米多孔氧化鋅薄膜及其制備方法

時(shí)間:2026-04-06    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 1 ) 次

【摘要】 一種高度c軸取向的納米多孔氧化鋅薄膜及其制 備方法,屬于半導(dǎo)體光電材料、納米能源材料、催化材料領(lǐng)域。 薄膜沉積過程由若干個(gè)循環(huán)組成,每個(gè)循環(huán)包含四步:(1)前驅(qū) 體溶液吸附;(2)襯底靜置;(3)襯底超聲輻照;(4)熱水反應(yīng)及 襯底干燥。前驅(qū)體為金屬鋅與氨或其他物質(zhì)的配合物溶液,可 采用金屬鋅的無機(jī)鹽或有機(jī)醋酸鹽與氨水(或其他絡(luò)合劑)配 制;襯底為普通玻璃、石英玻璃、ITO導(dǎo)電玻璃或其他材料。 本發(fā)明特點(diǎn)是:所得ZnO膜層具有獨(dú)特的納米多孔結(jié)構(gòu),最小 晶粒尺寸為3-10nm,因此具有比其他方法制備的ZnO膜層 大得多的比表面積;本方法成本低廉,簡便易行,無須使用有 機(jī)物和高溫加熱設(shè)備,適合于規(guī)模化薄膜材料制備,同時(shí)在大 面積薄膜生長、以及不規(guī)則襯底材料上的薄膜生長方面,也具 有突出的優(yōu)勢(shì)。 【專利類型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所 【申請(qǐng)人類型】科研單位 【申請(qǐng)人地址】200050上海市定西路1295號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國 【申請(qǐng)人城市】上海市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】長寧區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200610116509.8 【申請(qǐng)日】2006-09-26 【申請(qǐng)年份】2006 【公開公告號(hào)】CN1923701A 【公開公告日】2007-03-07 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN100582012C 【授權(quán)公告日】2010-01-20 【授權(quán)公告年份】2010.0 【發(fā)明人】高相東; 李效民; 于偉東 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種高度c軸取向的納米多孔氧化鋅薄膜,其特征在于: (1)所得的ZnO膜層不僅具有良好的結(jié)晶性,而且具有高度c軸 取向生長特征; (2)所得ZnO膜層在不同的微觀尺度具有不同的結(jié)構(gòu):在微米范 圍,由顆粒尺寸為200-400納米均勻分布的ZnO顆粒構(gòu)成;在納米尺度, 每一個(gè)ZnO顆粒又是由粒子尺寸為3-10納米的ZnO粒子構(gòu)成。 【當(dāng)前權(quán)利人】中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市定西路1295號(hào) 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】12100000425006547H 【被引證次數(shù)】TRUE 【家族被引證次數(shù)】TRUE

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