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瓶貼(062460)

時間:2026-04-05    作者:admin 點擊: ( 1 ) 次

【摘要】 1.該產(chǎn)品為平面產(chǎn)品。 2.后視圖無設計要點,省略后視圖。 3.請求保護的外觀設計包含色彩。 【專利類型】外觀設計 【申請人】社團法人浦東新區(qū)工程師協(xié)會; 朵蘭 【申請人類型】個人,機關團體 【申請人地址】201203上海市張江高科技園區(qū)郭守敬路189號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】浦東新區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630046669.0 【申請日】2006-12-06 【申請年份】2006 【公開公告號】CN300708799D 【公開公告日】2007-11-14 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN300708799D 【授權公告日】2007-11-14 【授權公告年份】2007.0 【發(fā)明人】朵蘭 【主權項內(nèi)容】無 【當前權利人】社團法人浦東新區(qū)工程師協(xié)會; 朵蘭 【當前專利權人地址】上海市張江高科技園區(qū)郭守敬路189號;

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    【摘要】本發(fā)明是氨化HEH(EHP)溶劑萃取分離稀土元素鏑,它屬干濕法冶金溶劑萃取工藝。本發(fā)明提出了用氨化HEH(EHP)基己基膦酸單“2-乙基己基”酯)為萃取劑,鏑的富集物中分離鏑的工藝流程。用30-40%氨化率,1.2-1.7M的HEH

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【摘要】一種圖象信息縮小復制技術。用于各種黑白圖象復制及國內(nèi)外各種黑白復制感光材料,采用“均衡顯影”與反轉顯影相結合的黑白反轉顯影沖洗配方,用化學反轉省去常規(guī)的二次曝光程序,其既能反轉顯影又達到顆粒細的效果。底片通過航測縮小儀上裝配的一個專

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【專利類型】外觀設計【申請人】社團法人浦東新區(qū)工程師協(xié)會; 邱強【申請人類型】個人,機關團體【申請人地址】201203上海市張江高科技園區(qū)郭守敬路189號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】浦東新區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【摘要】1.該產(chǎn)品為平面產(chǎn)品。 2.后視圖無設計要點,省略后視圖。 3.請求保護的外觀設計包含有色彩?!緦@愋汀客庥^設計【申請人】社團法人浦東新區(qū)工程師協(xié)會; 孟園園【申請人類型】個人,機關團體【申請人地址】201203上海市張江高科技園

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【摘要】1.該產(chǎn)品為平面產(chǎn)品。 2.后視圖無設計要點,省略后視圖。 3.請求保護的外觀設計包含有色彩?!緦@愋汀客庥^設計【申請人】社團法人浦東新區(qū)工程師協(xié)會; 丁彥強【申請人類型】個人,機關團體【申請人地址】201203上海市張江高科技園

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【摘要】本發(fā)明涉及一種直流電動機的控制方法,其特征在于,在磁場電流調節(jié)器和力矩函數(shù)之間,力矩函數(shù)處,電樞電流調節(jié)器和力矩函數(shù)之間分別設置三個功能切換開關2、3、4,用于電樞調節(jié)和磁場調節(jié)的切換;設置一個電樞電流比較和順序控制函數(shù),用于電樞電

    發(fā)布時間:2026-04-05
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