【摘要】一種低溫下制備銳鈦礦晶相二氧化鈦薄膜的方法,屬于寬禁帶半導(dǎo)體光催化科技領(lǐng)域。本發(fā)明通過反應(yīng)磁控濺射在基材上沉積二氧化鈦膜,在沉積過程中基材所在基底不加熱且通過水冷系統(tǒng)冷卻,氬氣流量保持在30sccm,調(diào)節(jié)氬氣與氧氣的流量比在10∶1
【摘要】 1.薄型產(chǎn)品,故省略其它視圖。 2.請(qǐng)求保護(hù)的外觀設(shè)計(jì)包含色彩。 【專利類型】外觀設(shè)計(jì) 【申請(qǐng)人】上海仙裳工貿(mào)有限公司 【申請(qǐng)人類型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】201108上海市閔行區(qū)銀都路2988號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國 【申請(qǐng)人城市】上海市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200630047293.5 【申請(qǐng)日】2006-12-12 【申請(qǐng)年份】2006 【公開公告號(hào)】CN300720871D 【公開公告日】2007-12-19 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN300720871D 【授權(quán)公告日】2007-12-19 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】金曉紅 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】無 【當(dāng)前權(quán)利人】上海仙裳工貿(mào)有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市閔行區(qū)銀都路2988號(hào) 【專利權(quán)人類型】有限責(zé)任公司 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】91310112703336635E
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