【摘要】本發(fā)明涉及的是一種用于切削工具技術(shù)領(lǐng)域的 TiNAlON納米多層涂層反應(yīng)磁控濺射制備方法。分別采用直 流陰極控制的Ti靶和射頻陰極控制的 Al2O3靶,通過在Ar氣和N2氣的 混合氣氛中的反應(yīng)濺射分別獲得TiN和AlON沉積層,并通
【摘要】 其他視圖無設(shè)計要點(diǎn),省略其他視圖。 【專利類型】外觀設(shè)計 【申請人】上海福祥陶瓷有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】201108上海市閔行區(qū)虹梅南路3888號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630036463.X 【申請日】2006-05-18 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3616482D 【公開公告日】2007-02-28 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN3616482D 【授權(quán)公告日】2007-02-28 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】詹儒森 【主權(quán)項內(nèi)容】無 【當(dāng)前權(quán)利人】上海福祥陶瓷有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市閔行區(qū)虹梅南路3888號 【專利權(quán)人類型】有限責(zé)任公司(自然人獨(dú)資) 【統(tǒng)一社會信用代碼】91310112607293161C
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