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【專利類型】外觀設計【申請人】上海工程技術大學【申請人類型】學校【申請人地址】200336上海市長寧區(qū)仙霞路350號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】長寧區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630040021.2【申請日】2006-08

【摘要】本發(fā)明提供一種提高III－V族應變多量子阱發(fā) 光強度的方法，其特征是通過離子刻蝕方法增強III－V族發(fā)光 材料的發(fā)光亮度。離子刻蝕覆蓋層采用感應耦合等離子體(ICP) 或反應離子(RIE)等刻蝕技術。刻蝕所采用的氣體為Ar離子或 A

【摘要】1.請求保護的外觀設計包含色彩。 2.平面產品，省略其他視圖?！緦＠愋汀客庥^設計【申請人】上海聯(lián)樂實業(yè)有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】201112上海市閔行區(qū)聯(lián)星路281號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣

【專利類型】外觀設計【申請人】上海麗琴文化用品有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】201109上海市閔行區(qū)放鶴路2438號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】閔行區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630038441.7【申請日】20

【摘要】本發(fā)明涉及一種用鈹鎳鈦銅合金制造的發(fā)電機轉子槽楔，其特征在于，主要元素成分含量(Wt％)：鈹0.10～0.30％、鎳1.50～2.50％、鈦0.40～0.60％、鉻05～0.15％；雜質元素成分含量(Wt％)：錳≤0.04％、鉛≤0

【摘要】平面產品，省略其他視圖?！緦＠愋汀客庥^設計【申請人】衣戀時裝(上海)有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】200241上海市閔行區(qū)龍吳路5888號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】閔行區(qū)【申請?zhí)枴緾N20063