【摘要】本發(fā)明創(chuàng)造屬于處理燃油內(nèi)燃機(jī)未完全燃燒原因所排放的廢氣中含有的碳?xì)浠衔?、一氧化碳、氮氧化合物、微塵顆粒的廢氣凈化器，其特征是，廢氣經(jīng)過在第一級廢氣催化氧化裝置和第二級廢氣過濾接觸裝置得到二次催化氧化的凈化處理，再用噴淋灑水裝置噴灑
【摘要】 本發(fā)明公開了一種45°入射寬光譜消偏振濾光 片的構(gòu)建方法，包括：采用兩個中心波長不同的雙反射膜堆加 三匹配層的構(gòu)思建立基本膜系，然后對基本膜系膜層厚度運(yùn)用 膜系設(shè)計與分析軟件Tfcalc3.5中的變尺度優(yōu)化方法進(jìn)行優(yōu)化， 即得最終鍍膜膜系的膜層厚度。本發(fā)明的濾光片構(gòu)建方法具有 的優(yōu)點是只需高低折射率兩種膜料；僅對部分膜層厚度進(jìn)行優(yōu) 化，且膜層層數(shù)較少，易于鍍制；入射角度對偏振變化不敏感； 該濾光片具有寬光譜、低偏振度及高消光比的特點；濾光片的 基底選材和膜料選材范圍寬。。詳見官網(wǎng)：www.macrodatas.cn 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】200083上海市玉田路500號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】虹口區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610118740.0 【申請日】2006-11-24 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1959447A 【公開公告日】2007-05-09 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】G02B5/20; G02B27/00 【發(fā)明人】馬小鳳; 劉定權(quán); 陳剛; 李大琪; 朱圳; 張鳳山; 嚴(yán)義勛 【主權(quán)項內(nèi)容】1.一種45°入射寬光譜消偏振濾光片的構(gòu)建方法，其特征在于包括如下步 驟： §A.建立基本膜系： 基底正面膜系為 基底/(g1Hg2Lg1H)2(HL)8(g1Hg2Lg1H)2(H’L’)11(g1Hg2Lg1H)2/空氣； 基底背面膜系為： ？？？？？？？？？？？？？基底/0.8H0.6L1.3H2L/空氣； 其中：入射介質(zhì)為空氣，基底為熔凝石英或者BK7玻璃； g1，g2是膜層厚度系數(shù)，其取值范圍均在0.5～2.5之間，視參考波長而定； (HL)8和(H’L’)11為兩個中心波長不同的雙反射膜堆，(HL)8中心波長為λ1， (H’L’)11中心波長為λ2； 兩個(g1Hg2Lg1H)2為匹配層，兩個反射膜堆之間的(g1Hg2Lg1H)2為平滑層； H、L分別代表光學(xué)厚度為λ1/4高、低折射率膜層，H’、L’分別代表光學(xué) 厚度為λ2/4高、低折射率膜層。 §B.對上述的正面基本膜系膜層厚度進(jìn)行優(yōu)化： 運(yùn)用膜系設(shè)計與分析軟件Tfcalc3.5中的變尺度優(yōu)化方法，將濾光片截止 帶的反射率R＝100％及其透射帶的透射率T＝100％作為優(yōu)化目標(biāo)函數(shù)，對上述正面 膜系中各匹配層的膜層厚度以及反射膜堆中的低折射率膜層厚度進(jìn)行變尺度優(yōu) 化，即得最終鍍膜膜系的膜層厚度。 【當(dāng)前權(quán)利人】中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市玉田路500號 【統(tǒng)一社會信用代碼】12100000425005579K 【被引證次數(shù)】12 【被自引次數(shù)】3.0 【被他引次數(shù)】9.0 【家族被引證次數(shù)】12
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