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金屬材料表面形成合金層的方法及設備

時間:2026-04-05    作者:admin 點擊: ( 1 ) 次

【摘要】 一種通過金屬化合物的加熱氣化而在金屬材料表面形成金屬層的方法及設備,被滲金屬材料放置在真空反應室中的陰極盤上,同時在真空反應室中或之外還放有金屬化合物蒸發(fā)器,蒸發(fā)器由低壓電源來加熱。金屬化合物在真空情況下通過加熱而氣化,氣化金屬化合物在陰極和陽極之間所加的直流高壓電場作用之下電離并進行輝光放電,在輝光放電下正離子金屬轟擊位于陰極盤上的金屬材料,使其表面形成合金層。 【專利類型】發(fā)明授權 【申請人】張弋飛 【申請人類型】個人 【申請人地址】北京西四磚塔胡同60號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】西城區(qū) 【申請?zhí)枴緾N85107593.2 【申請日】1985-10-15 【申請年份】1985 【公開公告號】CN1013689B 【公開公告日】1991-08-28 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN1013689B 【授權公告日】1991-08-28 【授權公告年份】1991.0 【IPC分類號】C23C10/08; C23C14/24; C23C10/00; C23C10/06; C23C14/36; C23C14/38 【發(fā)明人】張弋飛 【主權項內容】1.一種通過金屬鹵化物的加熱氣化而在金屬材料表面形成合金 層的方法,該方法由下列步驟組成:將被滲金屬材料放置在真空爐內 反應室中的陰極盤上,金屬鹵化物在真空爐抽真空情況下(真空度為 1.33Pa)進行加熱并達到沸點而氣化,氣化的金屬鹵化物充滿 反應室中,此時在陰極和陽極之間施加一電場,金屬化合物氣體在電 場作用下電離產(chǎn)生輝光放電,正離子金屬轟擊位于陰極盤上的被滲金 屬材料,從而使其表面形成合金層,該方法的特征在于,金屬鹵化物 直接加熱氣化,氣化金屬鹵化物是在惰性氣體進行輝光放電后進入真 空爐內反應室中取代惰性氣體,在直流高壓電場作用下電離并產(chǎn)生輝 光放電,在輝光放電條件下對金屬材料進行表面滲金屬。。更多數(shù)據(jù):搜索馬克數(shù)據(jù)網(wǎng)來源:www.macrodatas.cn 【當前權利人】張弋飛 【當前專利權人地址】北京西四磚塔胡同60號 【被引證次數(shù)】2 【被自引次數(shù)】2.0 【家族被引證次數(shù)】6

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