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時間:2026-04-05    作者:admin 點擊: ( 1 ) 次

【摘要】 省略其它視圖。 【專利類型】外觀設計 【申請人】旭峰發(fā)展有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】香港新界葵涌葵德街16-26號金德工業(yè)大廈第1座14樓18室 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】香港特別行政區(qū) 【申請?zhí)枴緾N91300488.X 【申請日】1991-03-08 【申請年份】1991 【公開公告號】CN3011103S 【公開公告日】1991-10-23 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN3011103S 【授權公告日】1991-10-23 【授權公告年份】1991.0 【發(fā)明人】陳經(jīng)雄 【主權項內容】無 【當前權利人】旭峰發(fā)展有限公司 【當前專利權人地址】香港新界葵涌葵德街16-26號金德工業(yè)大廈第1座14樓18室

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    【摘要】本發(fā)明采用磁性吸附,粗濾,離心分離,靜電凈化,深度型壓濾多種凈化機理的有機組合形式。高精度凈化液壓油中的各種固體污染物和膠質、水分、空氣等,內裝液壓油管嘴壓力油噴出為動力的離心轉子體,低溫控制器及高壓靜電發(fā)生器及自動安全保護電路。通

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【摘要】本實用新型公開了一種高熱量長壽命熱水器,包括集熱水箱、真空管在內的結構,真空管外管內壁設有反光膜,真空管外管內壁設有的反光膜在120-180°范圍內。在真空管內加入反光膜聚集了太陽光,從而使熱量顯著提高,同時反光膜反射掉太陽光中的紫

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【摘要】本發(fā)明涉及一種在半導體器件的光刻過程中縮小用于形成接觸孔的光刻膠圖案的臨界尺寸,從而允許得到臨界尺寸在90nm以下的接觸孔圖案的方法。所述方法包括a)在襯底上涂覆光刻膠,形成光刻膠層;b)利用具有預定圖案的掩模對光刻膠層進行曝光;c

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【摘要】省略其他視圖。【專利類型】外觀設計【申請人】上海江倫工具有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】201112上海市浦東三魯路719弄158號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】浦東新區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630036

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【專利類型】外觀設計【申請人】上海家化聯(lián)合股份有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】200082上海市保定路527號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】虹口區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630036514.9【申請日】2006-0

    發(fā)布時間:2026-04-05

    【摘要】一種分步制作的有價卡的結構,由至少兩層卡片重疊構成,卡片包括一個上層卡片和一個底層卡片,相鄰的卡片在邊緣處相互連接密封,上層卡片的外側面中設置有一個上遮光層,下層卡片的外側面中設置有一個下遮光層,上遮光層和下遮光層位于同一垂直直線上

    發(fā)布時間:2026-04-05
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