【摘要】本發(fā)明提供了一種用于檢測核徑跡雙卡防偽標(biāo)識的核成像分析儀,其特征在于:以載物臺中心為圓心設(shè)置分析盤,采用核成像技術(shù)為引導(dǎo)對原子核徑跡立體分布進(jìn)行斷層掃描,從而可確切鑒別核徑跡載體真?zhèn)?,為核徑跡系列產(chǎn)品必備的檢測設(shè)備?!緦@愋汀堪l(fā)明
【摘要】 1.后視圖為不常見面,省略后視圖。 2.右視圖與左視圖對稱,省略右視圖。 3.仰視圖為不常見面,省略仰視圖。 【專利類型】外觀設(shè)計(jì) 【申請人】孫守江 【申請人類型】個人 【申請人地址】102600北京市大興工業(yè)開發(fā)區(qū)B區(qū)天水街12號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】大興區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630015128.1 【申請日】2006-05-11 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3617226D 【公開公告日】2007-03-07 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN3617226D 【授權(quán)公告日】2007-03-07 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】孫守江 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】無 【當(dāng)前權(quán)利人】孫守江 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】北京市大興工業(yè)開發(fā)區(qū)B區(qū)天水街12號
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