【摘要】本發(fā)明利用電磁場約束電感耦合等離子體濺射 沉積法,以Co為磁性摻雜源,以Al為施主摻雜源制備(Co, Al)共摻雜的ZnO薄膜。制備過程采用Zn1-x - yCoxAlyO(0<x≤0.15,0<y≤0.03)靶材,Co的 摻雜濃度
【摘要】 1.請求保護的外觀設(shè)計包含色彩。 2.本外觀設(shè)計產(chǎn)品為平面產(chǎn)品,省略其他視圖。 【專利類型】外觀設(shè)計 【申請人】上海創(chuàng)博生態(tài)工程有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】201612上海市閔行區(qū)廟三路19號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630037667.5 【申請日】2006-06-13 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3673309D 【公開公告日】2007-07-25 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN3673309D 【授權(quán)公告日】2007-07-25 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】江瀚 【主權(quán)項內(nèi)容】無 【當前權(quán)利人】上海創(chuàng)博生態(tài)工程有限公司 【當前專利權(quán)人地址】上海市閔行區(qū)廟三路19號 【專利權(quán)人類型】有限責任公司(自然人投資或控股) 【統(tǒng)一社會信用代碼】91310112703128457W
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