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被動(dòng)式飽和箝位輸出光強(qiáng)連續(xù)可調(diào)的碲鎘汞光限幅器

時(shí)間:2026-04-05    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 1 ) 次

【摘要】 本發(fā)明公開了一種被動(dòng)式飽和箝位輸出光強(qiáng)連續(xù)可調(diào)的碲鎘汞光限幅器,該光學(xué)限幅器包括:一對(duì)分布布拉格反射鏡形成的F-P光學(xué)諧振腔和置于F-P 光學(xué)諧振腔中間的作為吸收層的HgCdTe光電二極管及施加于HgCdTe光電二極管的直流穩(wěn)壓電源。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是:1.由于吸收層采用HgCdTe光電二極管,通過控制施加于HgCdTe光電二極管的反向偏壓來達(dá)到雙光子吸收系數(shù)的人為調(diào)控;通過F-P光學(xué)諧振腔來增大雙光子吸收材料的等效吸收長度,從而實(shí)現(xiàn)在一定范圍內(nèi)對(duì)大功率激光器的輸出光強(qiáng)精確連續(xù)可調(diào)和飽和箝位。2.由于吸收波長可通過HgCdTe材料中Cd組分來調(diào)節(jié),因此,這種光學(xué)限幅器可以在整個(gè)紅外光學(xué)波段都能實(shí)現(xiàn)光學(xué)限幅要求。 數(shù)據(jù)由馬 克 數(shù) 據(jù)整理 【專利類型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 【申請(qǐng)人類型】科研單位 【申請(qǐng)人地址】200083上海市玉田路500號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國 【申請(qǐng)人城市】上海市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】虹口區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200610148067.5 【申請(qǐng)日】2006-12-27 【申請(qǐng)年份】2006 【公開公告號(hào)】CN1996685A 【公開公告日】2007-07-11 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN100461557C 【授權(quán)公告日】2009-02-11 【授權(quán)公告年份】2009.0 【IPC分類號(hào)】H01S3/107; H01S3/08; H01L31/068; G02F1/015 【發(fā)明人】陸衛(wèi); 崔昊楊; 李志鋒; 李寧; 甄紅樓; 張波; 陳平平; 李天信; 陳效雙 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種被動(dòng)式飽和箝位輸出光強(qiáng)連續(xù)可調(diào)的碲鎘汞光限幅器,包括:一對(duì)分 布布拉格反射鏡(2)形成的F-P光學(xué)諧振腔(1),其特征在于: 在F-P光學(xué)諧振腔中間置有HgCdTe光電二極管(4),作為入射激光的吸收層, 及施加于HgCdTe光電二極管(4)的直流穩(wěn)壓電源(7); 所說的分布布拉格反射鏡的兩相對(duì)鏡面上鍍有(HL)m或(LH)m介質(zhì)膜,其中H 為高折射率膜層,L為低折射率膜層,m為高、低折射率膜層交替疊層的次數(shù),m ≥2,膜層光學(xué)厚度為λ0/4,襯底材料為Ge或Si,高折射率膜層為PbTe或Ge材料, 低折射率膜層為ZnSe或SiO材料。 【當(dāng)前權(quán)利人】中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市玉田路500號(hào) 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】12100000425005579K 【被引證次數(shù)】6 【被自引次數(shù)】2.0 【被他引次數(shù)】4.0 【家族引證次數(shù)】3.0 【家族被引證次數(shù)】6

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