【摘要】1.圖中細線均為刻線,陰影部分為???。 2.省略其它視圖。 3.模板使用較薄且不易變形之透明或半透明材料制作。詳見官網(wǎng):www.macrodatas.cn【專利類型】外觀設(shè)計【申請人】沈鈞昌【申請人類型】個人【申請人地址】24600
【摘要】 省略其它視圖。 使用狀態(tài)參考圖1 使用狀態(tài)參考圖2 【專利類型】外觀設(shè)計 【申請人】山東新華制藥廠 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】255005山東省淄博市張家店區(qū)東一路14號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】淄博市 【申請人區(qū)縣】張店區(qū) 【申請?zhí)枴緾N91303142.9 【申請日】1991-01-14 【申請年份】1991 【公開公告號】CN3009978S 【公開公告日】1991-06-26 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號】CN3009978S 【授權(quán)公告日】1991-06-26 【授權(quán)公告年份】1991.0 【發(fā)明人】蔣則涌; 楊薇 【主權(quán)項內(nèi)容】無 【當前權(quán)利人】山東新華制藥廠 【當前專利權(quán)人地址】山東省淄博市張家店區(qū)東一路14號 【專利權(quán)人類型】國有企業(yè)
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