【摘要】本發(fā)明涉及的是一種采用三極磁控濺射離子鍍 膜技術(shù)單靶金屬鈦(或鋁)在氬氣和氮氣中反應(yīng)濺射 沉積到光亮處理過的金屬基體上的氮化鈦(或鋁)太 陽能選擇性吸收薄膜,基體加熱到一定溫度加負偏 壓,在增強離化電極作用下,濺射鈦(或鋁)原子與氮
【專利類型】外觀設(shè)計 【申請人】朱瑜明 【申請人類型】個人 【申請人地址】臺灣省桃園縣平鎮(zhèn)鄉(xiāng)平鎮(zhèn)工業(yè)區(qū)工業(yè)五路二十一號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N91303634.X 【申請日】1991-05-06 【申請年份】1991 【公開公告號】CN3010902S 【公開公告日】1991-10-09 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號】CN3010902S 【授權(quán)公告日】1991-10-09 【授權(quán)公告年份】1991.0 【發(fā)明人】朱瑜明; 謝國荃 【主權(quán)項內(nèi)容】無 【當前權(quán)利人】朱瑜明 【當前專利權(quán)人地址】臺灣省桃園縣平鎮(zhèn)鄉(xiāng)平鎮(zhèn)工業(yè)區(qū)工業(yè)五路二十一號
未經(jīng)允許不得轉(zhuǎn)載:http://m.duba2008.cn/1775202328.html
喜歡就贊一下






