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等離子弧表面強(qiáng)化發(fā)生裝置

時(shí)間:2026-03-29    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 0 ) 次

【摘要】 本實(shí)用新型涉及金屬表面熱處理技術(shù)。本裝置 由磁飽和控制硅整流器,等離子弧發(fā)生電控器和噴頭 構(gòu)成。其特征是在磁飽和控制硅整流器上設(shè)置了一 個(gè)電流調(diào)節(jié)控制器,噴頭的噴嘴做成具有壓縮段的改 斂擴(kuò)散型。本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn):能精確調(diào)節(jié)控 制等離子弧電流參數(shù),抑制電流沖擊,保證工件表面 不被燒傷,且等離子弧穩(wěn)定,剛?cè)岫冗m中。本實(shí)用新 型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,工作可靠,故障低。 (來源 馬克數(shù)據(jù)網(wǎng)) 【專利類型】實(shí)用新型 【申請(qǐng)人】中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué) 【申請(qǐng)人類型】學(xué)校 【申請(qǐng)人地址】230026安徽省合肥市金寨路96號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】合肥市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】蜀山區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N90216263.2 【申請(qǐng)日】1990-07-15 【申請(qǐng)年份】1990 【公開公告號(hào)】CN2082955U 【公開公告日】1991-08-14 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號(hào)】CN2082955U 【授權(quán)公告日】1991-08-14 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類號(hào)】H05H1/34; H05H1/36; C21D1/08; C21D1/06; H05H1/26 【發(fā)明人】張昌文; 楊連發(fā); 徐月英; 鄭火新; 吳月華; 杜華生; 蔣克芳; 周榆生 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種等離子弧表面強(qiáng)化發(fā)生裝置,包括: 用于產(chǎn)生等離子弧電流的磁飽和控制硅整流器1, 由繼電器、高頻火花發(fā)生器、電流繼電器及電磁閥構(gòu)成的等離子弧發(fā)生電控器2, 連接在等離子弧發(fā)生電控器上的噴頭3, 其特征在于: 1)在磁飽和控制硅整流器1上設(shè)置了一個(gè)保證工件表面不被燒傷的電流調(diào)節(jié)控制器4,用于當(dāng)?shù)入x子弧在引燃和熄滅時(shí),產(chǎn)生抑制電流沖擊的信號(hào),當(dāng)?shù)入x子弧運(yùn)行速度小于預(yù)定值時(shí),產(chǎn)生使等離子弧電流下降或切斷的信號(hào),當(dāng)?shù)入x子弧運(yùn)行速度達(dá)到工藝參數(shù)值時(shí),產(chǎn)生使等離子弧電流自行增加成強(qiáng)化電流的信號(hào), 2)等離子弧發(fā)生電控器2,在整個(gè)工作過程中,使非轉(zhuǎn)移弧始終存在,非轉(zhuǎn)移弧建立后,用電流繼電器L切斷高頻火花發(fā)生器13電源,當(dāng)非轉(zhuǎn)移弧因故消失后,又自動(dòng)接通,使等離子弧穩(wěn)定及強(qiáng)化電流容易建立和控制。 【當(dāng)前權(quán)利人】中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué) 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】安徽省合肥市金寨路96號(hào) 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】12100000485001086E 【被引證次數(shù)】2.0 【被自引次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】1.0 【家族被引證次數(shù)】2.0

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