【摘要】本實用新型公開了一種蓄料式涂覆裝置，它采用 了滾筒即是蓄料筒的結(jié)構(gòu)，及在蓄料筒的圓柱面上均 勻地分布著滲油孔，滲油孔上面由一定厚度的泡沫塑 料層覆蓋，泡沫塑料外加網(wǎng)罩的出油方式，從而使本 實用新型具有結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，工作時無涂料
【摘要】 大面積紫外光刻(曝光)機的光學系統(tǒng)。本實用新型涉及一種紫外光刻(曝光)設(shè)備，特別 是用于接觸/接近式大面積紫外光刻(曝光)機的光 學系統(tǒng)。由于采用了可將輻照面內(nèi)輻照不均勻度與 曝光過程中產(chǎn)生的曝光不均勻度互相補償?shù)呐紨?shù)光 通道光學積分器和復合高次非球面的聚光鏡，使得在 增大有效輻照面積的同時提高了曝光均勻度。為液 晶顯示器，特別是液晶電視技術(shù)中的關(guān)鍵器件有源矩 陣液晶顯示器的研制提供了有效手段。它還適用于 大規(guī)模集成電路和精密印刷電路板的制作及太陽紫 外輻照模擬實驗等方面。 【專利類型】實用新型 【申請人】中國科學院長春光學精密機械研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】130022吉林省長春市斯大林大街112號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】長春市 【申請人區(qū)縣】南關(guān)區(qū) 【申請?zhí)枴緾N90218131.9 【申請日】1990-08-15 【申請年份】1990 【公開公告號】CN2074024U 【公開公告日】1991-03-27 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號】CN2074024U 【授權(quán)公告日】1991-03-27 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類號】G03F7/20 【發(fā)明人】仲躋功 【主權(quán)項內(nèi)容】1、用于紫外光刻(曝光)機的光學系統(tǒng)，由聚光鏡1、光源2、濾光片3、光學積分器4、曝光快門5和準直透鏡6組成，光學積分器4的入射端位于聚光鏡1的第二參考面上，出射端位于準直透鏡6的焦面上，其特征在于光學積分器4的光通道數(shù)目為偶數(shù)，其組合通光口徑最好采用正方形。 【當前權(quán)利人】中國科學院長春光學精密機械研究所 【當前專利權(quán)人地址】吉林省長春市斯大林大街112號 【被引證次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】1.0 【家族被引證次數(shù)】1.0
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