【摘要】本實用新型是關(guān)于一種新型手提式紙箱，該紙箱 上側(cè)面的第二箱板內(nèi)設(shè)有一隱藏式彈性提帶，而在側(cè) 面的第一箱板中間設(shè)有一可壓開的門板，由此可使本 實用新型的紙箱用于自動包裝方式，以及可由上側(cè)面 的箱板中將提帶拉出，使消費者易于提走，又能在
【摘要】 本發(fā)明公開了一種用半導體加工技術(shù)制作表盤 的工藝方法，該方法包括應(yīng)用濺射、真空蒸發(fā)、氧化、 氣相淀積等工藝方法在表盤基片形成具有裝飾性的 彩色薄膜，之后應(yīng)用光蝕刻工藝方法在該薄膜層上刻 蝕形成表盤計時刻度、文字、商標、圖案和微雕藝術(shù)。 用本方法制作的表盤可獲得工藝精細，圖文準確，表 面光亮，色彩豐富的具有良好裝飾性的表盤產(chǎn)品。尤 其是可利用報廢的半導體硅。鍺晶片制作表盤，具有 利舊利廢，制造工藝簡單等特點。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】嚴化平 【申請人類型】個人 【申請人地址】132001吉林省吉林市半導體廠康莊街71-40號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】吉林市 【申請人區(qū)縣】船營區(qū) 【申請?zhí)枴緾N90100145.7 【申請日】1990-01-07 【申請年份】1990 【公開公告號】CN1053137A 【公開公告日】1991-07-17 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號】CN1020507C 【授權(quán)公告日】1993-05-05 【授權(quán)公告年份】1993.0 【IPC分類號】G04B19/06; C23C14/14; C23C14/10; C23C16/40 【發(fā)明人】嚴化平 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種加工制作表盤的工藝方法，其特征在于表盤的加工制作應(yīng)用了半導體加工工藝技術(shù)，該工藝方法包括：應(yīng)用濺射。真空蒸發(fā)。氧化、氣相淀積等工藝方法，在表盤基片表面形成即具有裝飾性，又具有可加工性的薄膜層，之后應(yīng)用光蝕刻技術(shù)在該薄膜層上刻蝕形成表盤的計時刻度、文字、商標、圖案以及在表盤局部刻蝕微雕藝術(shù)等。 【當前權(quán)利人】嚴化平 【當前專利權(quán)人地址】吉林省吉林市半導體廠康莊街71-40號 【被引證次數(shù)】5.0 【被他引次數(shù)】5.0 【家族被引證次數(shù)】5.0
未經(jīng)允許不得轉(zhuǎn)載：http://m.duba2008.cn/1774186200.html
喜歡就贊一下
