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一種半導(dǎo)體硅表面清洗方法

時(shí)間:2026-03-26    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 2 ) 次

【摘要】 一種半導(dǎo)體硅表面清洗方法,屬于半導(dǎo)體硅器件 產(chǎn)生技術(shù)領(lǐng)域。它是在利用非離子表面活性劑和金 屬離子螯合劑為主劑的清洗劑清洗之后,再加一道利 用含微量HF酸的上述清洗劑清洗工序?;贖F酸能去除硅表面總是存在的一層SiO2 薄膜,該清洗方法能夠有效地清除寄存于SiO2中的 各種雜質(zhì)而具有比通常傳統(tǒng)方法更好的清洗效果,用 這種清洗方法制造的硅PW結(jié),其反向擊穿電壓比 用通常傳統(tǒng)方法明顯提高。 詳見官網(wǎng):www.macrodatas.cn 【專利類型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】孫啟基; 丁永發(fā); 戴群; 陳子俊 【申請(qǐng)人類型】個(gè)人 【申請(qǐng)人地址】261041山東省濰坊市東風(fēng)大街43號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】濰坊市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】濰城區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N89106866.X 【申請(qǐng)日】1989-12-02 【申請(qǐng)年份】1989 【公開公告號(hào)】CN1052220A 【公開公告日】1991-06-12 【公開公告年份】1991 【IPC分類號(hào)】H01L21/02; H01L21/30 【發(fā)明人】孫啟基; 丁永發(fā); 戴群; 陳子俊 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種半導(dǎo)體硅表面的清洗方法,屬于半導(dǎo)體硅器件生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,其特征是包括用含有微量BF酸的清洗劑清洗工序。 【當(dāng)前權(quán)利人】孫啟基; 丁永發(fā); 戴群; 陳子俊 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】山東省濰坊市東風(fēng)大街43號(hào); ; ; 【被引證次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】1.0 【家族被引證次數(shù)】1.0

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