【摘要】本實用新型涉及一種高空作業(yè)安全保護裝置。 它由鋼絲繩，中軸，卡爪，掛鉤組成，在繩盤上有插孔， 在繩盤側(cè)面有旋片，橋板，安全銷，擋片等組成的鎖定 機構(gòu)。當(dāng)人從高處失足下落時，繩盤轉(zhuǎn)速突然加快， 與之相連的旋片由于所受離心力大于彈簧拉力
【摘要】 迄今在市場上銷售的鍍膜機，無例外的都是單室 機。本發(fā)明的雙室旋轉(zhuǎn)磁控濺射鍍膜機是對單室磁 控濺射鍍膜機的改進。兩個鍍膜室通過預(yù)抽真空管 道和蝶閥、高真空三通管道和閘板閥組成一個整體。 兩室交替的使用一套真空抽氣機組和一套電源控制 系統(tǒng)，其工作效率相當(dāng)于兩臺單室機，但比兩臺單室 機節(jié)約電能40％以上，而造價卻比兩臺單室機低 30％。由于發(fā)明了旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶系統(tǒng)，使靶材表 面濺射和刻蝕均勻，靶材的利用率由原來的20％左 右提高到了現(xiàn)在的74％。 【專利類型】實用新型 【申請人】核工業(yè)西南物理研究院 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】四川省樂山市第十五信箱 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】樂山市 【申請?zhí)枴緾N89215781.X 【申請日】1989-09-05 【申請年份】1989 【公開公告號】CN2075655U 【公開公告日】1991-04-24 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號】CN2075655U 【授權(quán)公告日】1991-04-24 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類號】C23C14/35 【發(fā)明人】王貴義; 王世忠 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種由鍍膜室、鍍膜室底座、磁控濺射源系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和電源控制系統(tǒng)組成的雙室旋轉(zhuǎn)磁控濺射鍍膜裝置，其特征是鍍膜室為共用一套真空抽氣機組和一套電源控制系統(tǒng)的雙室結(jié)構(gòu)；鍍膜室的磁控濺射源是旋轉(zhuǎn)磁控濺射源，它是一種圓柱形管狀靶，在其內(nèi)與軸平行地安置著數(shù)根條形磁鋼，而且整個磁體具有轉(zhuǎn)動機構(gòu)，其轉(zhuǎn)速＞1轉(zhuǎn)/分。 來自：www.macrodatas.cn 【當(dāng)前權(quán)利人】核工業(yè)西南物理研究院 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】四川省樂山市第十五信箱 【被引證次數(shù)】12.0 【被他引次數(shù)】12.0 【家族被引證次數(shù)】12.0
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