【摘要】www.macrodatas.cn本發(fā)明屬于致冷劑R-12的脫水新工藝，其采用二級脫水設(shè)備及控制工藝條件來達(dá)到脫水的目的，第一級脫水使用連續(xù)自動分水器脫除大量水份，第二級脫水采用脫氣塔，脫去微量水份。其優(yōu)點在于操作簡單，成本低，可使
【摘要】 本發(fā)明屬于電子顯示技術(shù)領(lǐng)域，是一種矩陣顯示 器條狀電極制備工藝。本發(fā)明使用微機(jī)控制繪圖儀， 以刻刀刻劃掩膜膠層代替?zhèn)鹘y(tǒng)光刻工藝。掩膜層可 分別由漆類、瀝青、石蠟配制而成，同時配制一種新的 ITD或SnO2電極腐蝕液對電極進(jìn)行腐蝕，完成了條 狀電極制備。本發(fā)明適用于電致發(fā)光，液晶和等離子 體矩陣顯示器中ITD，SnO2條狀電極的制備，也適 用于其它種類(如印刷電路板)條狀電極的制備。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中國科學(xué)院長春物理研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】吉林省長春市延安大路1號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】長春市 【申請人區(qū)縣】朝陽區(qū) 【申請?zhí)枴緾N89106585.7 【申請日】1989-08-16 【申請年份】1989 【公開公告號】CN1048645A 【公開公告日】1991-01-16 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號】CN1018325B 【授權(quán)公告日】1992-09-16 【授權(quán)公告年份】1992.0 【IPC分類號】H05K3/06; G09G3/34 【發(fā)明人】周連祥; 張奇; 金弼 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種矩陣顯示器條狀電極制備工藝，現(xiàn)有技術(shù)包括繪圖、制板、甩膠、暴光、堅膜、顯影等光刻工藝及烘板、修板、腐蝕、去膜等，本發(fā)明的特征在于用微機(jī)控制繪圖儀，以刻刀刻劃ITD或SnO2的掩膜膠層代替?zhèn)鹘y(tǒng)光刻工藝，用新的掩膜物質(zhì)代替?zhèn)鹘y(tǒng)工藝的掩膜物質(zhì)，在腐蝕液中加入一種緩蝕劑。 本發(fā)明的工藝過程包括1配制掩膜膠；2腐蝕液的配制；3涂掩膜膠層；4刻線；5腐蝕；6去膜。 所述的掩膜物質(zhì)為瀝青；各種漆類；天然樹脂；石臘等。 所述的緩蝕劑為丙三醇；乙二醇；聚乙烯醇等；緩蝕劑在腐蝕劑中的量為：濃鹽酸∶水∶緩蝕劑體積比為1∶1∶2-4。 （來自 馬克數(shù)據(jù)網(wǎng)） 【當(dāng)前權(quán)利人】中國科學(xué)院長春物理研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】吉林省長春市延安大路1號 【被引證次數(shù)】12.0 【被他引次數(shù)】12.0 【家族被引證次數(shù)】13.0
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