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硅器件芯片背面銀系濺射金屬化

時間:2026-03-26    作者:admin 點擊: ( 1 ) 次

【摘要】 本發(fā)明采用先進的磁控濺射技術,以成本較低的 金屬銀作為硅器件背面金屬化層主要材料,采用先進 的快速熱退火工藝,成功地解決了硅器件背面金屬化 結構的可靠性問題。濺射方法制備的背面金屬化結 構,層間熱應力匹配好,歐姆接觸性能優(yōu)良,具有良好 的浸錫沾潤性能和很強的附著能力。實驗表明,本方 法顯著地改善了晶體管的電學性能,熱疲勞試驗達3 萬次,達到高可靠質量要求。濺射銀系工藝成本低, 便于推廣。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】北京大學 【申請人類型】學校 【申請人地址】北京市海淀區(qū)中關村北京大學 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請?zhí)枴緾N89109303.6 【申請日】1989-12-18 【申請年份】1989 【公開公告號】CN1052750A 【公開公告日】1991-07-03 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN1017950B 【授權公告日】1992-08-19 【授權公告年份】1992.0 【IPC分類號】H01L21/28; H01L21/283; H01L23/485; H01L21/02; H01L23/48 【發(fā)明人】張利春; 趙忠禮; 高玉芝; 寧寶俊; 王陽元 【主權項內(nèi)容】1、一種硅器件芯片背面金屬化方法,其特征在于工藝過程包括: (1)將以下金屬依次分層濺射到硅器件背面; ①鈦、鎳、銀, ②鉻、銀銅合金,或者 ③鉻、鎳、銀; (2)將濺射后的硅器件進行用以消除濺射所造成的表面損傷,增加各金屬層之間的滲透及表面層的錫浸潤性能的快速熱退火處理,熱退火溫度為400℃-500℃,退火時間為10秒-20秒。 (macrodatas.cn) (來 自 馬 克 數(shù) 據(jù) 網(wǎng)) 【當前權利人】北京大學 【當前專利權人地址】北京市海淀區(qū)中關村 【專利權人類型】公立 【統(tǒng)一社會信用代碼】12100000400002259P 【被引證次數(shù)】4.0 【被他引次數(shù)】4.0 【家族被引證次數(shù)】4.0

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