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帶低阻薄層襯底的高壓硅管及制法

時間:2026-03-26    作者:admin 點擊: ( 3 ) 次

【摘要】 一種對具有單層襯底結(jié)構(gòu)的高壓半導(dǎo)體硅管制造方法的改進(jìn),通過背面摻雜等工藝,在襯底高阻層背面形成低阻薄層,有效地減小了接觸電阻,增加了功能,簡化了工藝,減少了加工中的碎片率,制成一種具有低阻薄層襯底結(jié)構(gòu)的新型高壓半導(dǎo)體硅管。 【專利類型】發(fā)明授權(quán) 【申請人】北京市半導(dǎo)體器件研究所 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】北京市昌平縣沙河鎮(zhèn) 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】昌平區(qū) 【申請?zhí)枴緾N89103536.2 【申請日】1989-06-02 【申請年份】1989 【公開公告號】CN1014570B 【公開公告日】1991-10-30 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號】CN1014570B 【授權(quán)公告日】1991-10-30 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類號】H01L21/302; H01L21/265; H01L21/24; H01L21/324; H01L21/02 【發(fā)明人】李恩敏 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種高壓硅管的制作方法,該方法包括下列工藝步驟: a、制備高阻硅單晶片襯底; b、用常規(guī)工藝在所說的高阻襯底上制造管芯; c、在高阻襯底制有管芯的一面--正面的管芯之間劃出片槽; d、用粘接劑將已制有管芯的單晶片與底襯托粘接在一起,形成復(fù)合 片; e、對復(fù)合片的高阻襯底未制作管芯的一面--背面進(jìn)行研磨、減薄; f、摻雜。 其特征在于,在步驟d中,是將已制有管芯的單晶片劃出劃片槽的正 面與底托片粘接在一起,即步驟d是在步驟c之后進(jìn)行的;在步驟f中, 摻雜是對已被減薄的帶有管芯的高阻襯底的背面進(jìn)行的。 【當(dāng)前權(quán)利人】北京市半導(dǎo)體器件研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】北京市昌平縣沙河鎮(zhèn) 【專利權(quán)人類型】全民所有制 【統(tǒng)一社會信用代碼】911101144006151941 【引證次數(shù)】3.0 【自引次數(shù)】3.0 【家族引證次數(shù)】3.0 【家族被引證次數(shù)】3.0

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