【摘要】本發(fā)明是用靜電場的方法，設(shè)置一個環(huán)形正電極板，玻璃帶在環(huán)形正電極板中間通過，使玻璃表面的正離子均勻的向玻璃板內(nèi)部進(jìn)行定向的，微程的遷移。從而獲得質(zhì)量較好，抗風(fēng)化性能較強(qiáng)的板玻璃，本發(fā)明無污染、設(shè)備簡單、投資少、成本低、可應(yīng)用在浮法工
【摘要】 本發(fā)明公開了一種可用于以硅錳鋼為坯件的搪瓷制造工藝。工藝中采用了新的底釉和面釉配方；浸漬或澆柱垂流涂搪方法，并采用研磨機(jī)對燒成后的瓷面進(jìn)行研磨，最后再予以燒成。采用本發(fā)明生產(chǎn)的搪瓷制件具有良好的耐酸減性和耐磨性以及較高的精度，瓷釉和鋼坯之間有很好的密著性，可廣泛應(yīng)用以硅錳鋼和低碳鋼為制件的各種工業(yè)搪瓷制品。 【專利類型】發(fā)明授權(quán) 【申請人】西安人民搪瓷廠 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】陜西省西安市長樂西路166號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】西安市 【申請人區(qū)縣】新城區(qū) 【申請?zhí)枴緾N88103025.2 【申請日】1988-05-21 【申請年份】1988 【公開公告號】CN1014724B 【公開公告日】1991-11-13 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號】CN1014724B 【授權(quán)公告日】1991-11-13 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類號】C23D5/02; C03C8/00; C03C8/14 【發(fā)明人】陳干民; 劉緒亮; 黃柏炎 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種搪瓷制造工藝，其特征在于：首先對硅錳鋼坯件進(jìn)行 搪前處理，然后涂搪底釉漿，經(jīng)烘干，燒成后，再涂搪面釉漿， 經(jīng)烘干，燒成后，再重復(fù)一次涂搪面釉漿，烘干，燒成，最后用 研磨機(jī)將瓷面磨平到圖紙規(guī)定的精度要求，再燒成成品；所述底 釉漿是由底釉熔塊引入磨加物研磨而成，底釉熔塊的化學(xué)組成為： SiO2：44.5-58.4， Al2O3：3.5-9.1 B2O3：11.5-19.0， R2O：16.0-20.4， CaF2：4.5-11.8， Na2SiF6：0.5-3.5， CoO：0.9-2.7， MnO2：0.8-5.5， CuO：0.2-2.8. Fe2O3：0.3-3.5. 磨加物的組成(100份釉塊中的份數(shù))為：硼砂：0.5～1.1， 亞硝酸鈉：0～0.2，純堿：0.2～0.7，冰晶：0.1～0.3 石英粉：15.0～22.0，粘土：4.5～8.0，三氧化二鋁：1.0～3.0； 所述面釉漿是由第一種或第二種面釉熔塊研磨而成，第一種 面釉熔塊的化學(xué)組成(重量％)為： SiO2：62.0-69.0， Al2O3：2.0-5.0， K2O：0-3.0， Na2O：6.0-11.0 B2O3：2.U-6.0， ZrO2：0.8-6.0， Na2SiF6：1.0-4.0， TiO2：5.0-9.0， Li2O：0.5-5.0， CoO：0.5-2.0， CaO：0-3.0， MnO2：0.3-1.5； 第二種面釉熔塊的化學(xué)組成(重量)為： SiO2：63.0-68.0， Al2O3：9.0-13.0， K2O：2.0-7.0， Na2O：3.0-8.0， B2O3：1.0-5.0。 ZrO2：0.5-5.5， 【當(dāng)前權(quán)利人】西安人民搪瓷廠 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】陜西省西安市長樂西路166號 【專利權(quán)人類型】全民所有制 【統(tǒng)一社會信用代碼】91610102220603372G 【被引證次數(shù)】3.0 【被他引次數(shù)】3.0 【家族被引證次數(shù)】16.0
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