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厚膜超導(dǎo)電子器件及其制造方法

時(shí)間:2026-03-26    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 4 ) 次

【摘要】 本發(fā)明提出了一種由超導(dǎo)厚膜組成的超導(dǎo)器件及其制造方法,所說(shuō)的超導(dǎo)膜由厚度為5~30微米的稀土-鋇-銅-氧系的氧化物系超導(dǎo)材料組成。本發(fā)明提出的超導(dǎo)器件的制造方法包括在基板上制膜、制微橋、燒制、按導(dǎo)通的電流電極和電壓電極工序組成,還可包括在燒制后在微橋上制微孔穴工序。在基板上制膜工序采用絲網(wǎng)印刷技術(shù)。本發(fā)明提出的超導(dǎo)器件性能穩(wěn)定、容易制造,其制造方法簡(jiǎn)單,所需設(shè)備簡(jiǎn)單、成本低。。來(lái)自馬-克-數(shù)-據(jù)-官網(wǎng) 【專(zhuān)利類(lèi)型】發(fā)明授權(quán) 【申請(qǐng)人】北京有色金屬研究總院 【申請(qǐng)人類(lèi)型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】北京市新街口外大街2號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】北京市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】西城區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N88101614.4 【申請(qǐng)日】1988-03-31 【申請(qǐng)年份】1988 【公開(kāi)公告號(hào)】CN1012241B 【公開(kāi)公告日】1991-03-27 【公開(kāi)公告年份】1991 【授權(quán)公告號(hào)】CN1012241B 【授權(quán)公告日】1991-03-27 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類(lèi)號(hào)】H01L39/22; H01L39/24 【發(fā)明人】林安中; 李漢青 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種超導(dǎo)器件,它由襯底基板(1)、與襯底 牢固結(jié)合的氧化物系超導(dǎo)膜(2)、位于超導(dǎo)膜間 的與膜相連的微橋(3)、與膜導(dǎo)通的電流電極 (4)和電壓電極(5)組成,所說(shuō)的氧化物系超導(dǎo) 膜是稀土元素-鋇-銅-氧系超導(dǎo)體,所說(shuō)的稀土元 素是Y、La、Nd、Cm、Gd、Ho、Er、Lu中的 一種;其特征是: 1)所說(shuō)的超導(dǎo)膜是厚度為5-30微米的厚 膜; 2)所說(shuō)的微橋的長(zhǎng)度為0.1-3毫米,寬度為 0.1-2毫米。 【當(dāng)前權(quán)利人】有研半導(dǎo)體材料股份有限公司 【當(dāng)前專(zhuān)利權(quán)人地址】北京市西城區(qū)新街口外大街2號(hào) 【被引證次數(shù)】3.0 【被自引次數(shù)】3.0 【家族被引證次數(shù)】5.0

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